선진 반도체제조에 사용될 새로운 Filter 기술 개발 및 테스트를 위한 공동 개발 협약을 IBM(NYSE:IBM)과 체결했다고 밝혔다.

이번 협력은 반도체 공정 중 Photolithography 공정에서 Imaging 소재를 Dispense 하고 Filtering하는 과정에 사용되어지는 Entegris의 차세대 필터와 Dispense 시스템의 Test data를 생성하는데 중점을 둔다.

반도체 업계에서 이 응용분야에 쓰이는 Fillter 및 Dispense 시스템을 모두 공급하는 유일한 기업인 Entegris는 뉴욕 East Fishkill에 거점을 둔 IBM 기술팀과 함께 제조 양산 수율에 부정적 영향을 미칠 수 있는 불순물(예: 입자, 기포)을 제어하는 새로운 기술을 개발할 계획이다.

신소재 기술, 프로세스 케미칼 및 새로운 포토 리소그라피 공정기술들의 이용은 더 작고 강력하면서 소비전력이 적은 차세대 반도체 소자를 제조 개발하는 반도체 산업과정에 있어 새로운 도전들임을 보여준다.

Entegris의 CEO인 Gideon Argov 사장은 “이번 협약은 우리가 32나노미터 미만 노드 반도체 제작 공정에서 효과적인 여과 기술이 양산에 미치는 긍정적 효과를 입증하고자 지금까지 참여했던 다른 산업 컨소시움 활동들을 보완할 것입니다. 반도체 업계의 기술 선도 회사 중 하나인 IBM과 Partner가 된 것을 기쁘게 생각합니다.” 라고 말했다.