한·미 특허청은 2017년 11월 1일부터 특허 공동심사(CSP, Collaborative Search Program) 2차 시범사업을 시행한다.
CSP는 우리나라와 미국에 동일한 발명이 출원된 경우 특허여부를 판단하는데 필요한 선행기술 정보를 양국 심사관들이 공유하고, 다른 출원 건보다 빠르게 심사해 주는 제도이다. 특히 미국 특허청에서 약 5백만원의 우선심사 신청료를 면제하여, 국내 기업의 미국특허 취득 시간과 비용이 크게 줄어든다.
1차 시범사업은 2017년 8월 31일까지 2년 간 진행되었고, 이 기간 동안 국내외 기업으로부터 112건(국내 77건, 국외 35건)이 신청되었다.
심사 처리기간은 평균 7.5개월로 일반심사 건 대비 3.5개월 단축되었고, 특허 등록률은 84.4%로 일반심사 건 대비 25.2%p가 높았다. 양국 심사결과(특허등록 또는 거절)는 85.3%가 일치하였다.
한편, 1차 시범사업 동안 국내외 출원인으로부터 심사처리 기간 단축과 심사품질 향상에 기여한다는 호평을 받았음에도 불구하고, 신청요건이 엄격하고 일부 절차가 불합리하다는 의견이 있었다.
이번 2차 시범사업에서는 출원인의 불편 사항을 개선하였다.
첫째, 종전에는 CSP 신청 당시 양국 출원서에 기재된 모든 발명이 동일해야 했으나(전체 청구항 동일), 대표 발명만이 동일하도록(독립 청구항만 동일) 신청요건을 완화하였다.
둘째, 미국만의 독특한 제도(미국 선행기술 제출 제도(Information Disclosure Statement): 심사관의 특허요건 판단에 중요한 정보를 출원인이 제공하는 의무로 위반 시 특허권 행사 제한)로 인해, 양국이 CSP를 통해 공유한 선행기술 정보일지라도 출원인이 이를 미국에 중복하여 제출해야 하는 부담이 있었으나, 절차를 간소화하여 이를 해소하였다.
향후 특허청은 국내 기업이 다른 국가에서도 편리하게 해외특허를 확보할 수 있도록, 중국 등 주요국과 CSP를 확대할 계획이다.
[데일리연합뉴스 이권희기자]
